etwo紅外線射頻治療儀

產(chǎn)品名稱

紅外線射頻治療儀eTwo

管理類別

第三類

型號規(guī)格

eTwo

結(jié)構(gòu)及組成/主要組成成分

本系統(tǒng)由主機、電源模塊、控制系統(tǒng)、治療頭和治療蓋組成，兩個治療頭：Sublative RF，Sublime。Sublime治療頭：射頻頻率：1MHz，允差±10%；射頻脈沖重復率：1Hz，2Hz，允差±20%；紅外線燈峰值功率密度：6W/cm2，允差±20%；紅外線燈光譜范圍：不窄于700-2000nm；紅外線燈脈沖重復率：1Hz，2Hz，允差±20%；治療面積：9mm×12mm，允差±10%；Sublative RF治療頭：射頻頻率：1MHz，允差±10%；射頻脈沖重復頻率：1Hz，允差±20%；治療面積：64個電插腳：12×12mm；44個電插腳：3×11mm，允差±10%。

適用范圍/預期用途

Sublative RF治療頭用于萎縮性痤瘡疤痕及減少局部皺紋；Sublime治療頭用于減少局部皺紋。

有效期至：2025-07-13

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售后服務

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